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          菲希爾XDV X射線測厚儀信息

          更新時間:2024-09-29   點擊次數:297次

          菲希爾X射線測厚儀特點

          Advanced polycapillary X-ray optics that focus the X-rays onto extremely small measurement surfaces

          先進的多毛細管透鏡,可將X射線聚集到極微小的測量面上

          現代化的硅漂移探測器(SDD),確保高的檢測靈敏度

          可用于自動化測量的超大可編程樣品平臺

          為特殊應用而專門設計的儀器,包括:

          XDV-μ LD,擁有較長的測量距離(至少12mm)

          XDV-μLEAD FRAME,特別為測量引線框架鍍層如Au/Pd/Ni/CuFe等應用而優化

          XDV-μ wafer,配備全自動晶圓承片臺系統

          應用:

          鍍層厚度測量

          測量未布元器件和已布元器件的印制線路板

          在納米范圍內測量復雜鍍層系統,如引線框架上Au/Pd/Ni/CuFe的鍍層厚度

          對最DA12英寸直徑的晶圓進行全自動的質量監控

          在納米范圍內測量金屬化層(凸塊下金屬化層,UBM)

          遵循標準 DIN EN ISO 3497 和 ASTM B568





          蘇公網安備32021402002647
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