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          菲希爾XDV X射線測(cè)厚儀信息

          更新時(shí)間:2024-09-29   點(diǎn)擊次數(shù):525次

          菲希爾X射線測(cè)厚儀特點(diǎn)

          Advanced polycapillary X-ray optics that focus the X-rays onto extremely small measurement surfaces

          先進(jìn)的多毛細(xì)管透鏡,可將X射線聚集到極微小的測(cè)量面上

          現(xiàn)代化的硅漂移探測(cè)器(SDD),確保高的檢測(cè)靈敏度

          可用于自動(dòng)化測(cè)量的超大可編程樣品平臺(tái)

          為特殊應(yīng)用而專門設(shè)計(jì)的儀器,包括:

          XDV-μ LD,擁有較長(zhǎng)的測(cè)量距離(至少12mm)

          XDV-μLEAD FRAME,特別為測(cè)量引線框架鍍層如Au/Pd/Ni/CuFe等應(yīng)用而優(yōu)化

          XDV-μ wafer,配備全自動(dòng)晶圓承片臺(tái)系統(tǒng)

          應(yīng)用:

          鍍層厚度測(cè)量

          測(cè)量未布元器件和已布元器件的印制線路板

          在納米范圍內(nèi)測(cè)量復(fù)雜鍍層系統(tǒng),如引線框架上Au/Pd/Ni/CuFe的鍍層厚度

          對(duì)最DA12英寸直徑的晶圓進(jìn)行全自動(dòng)的質(zhì)量監(jiān)控

          在納米范圍內(nèi)測(cè)量金屬化層(凸塊下金屬化層,UBM)

          遵循標(biāo)準(zhǔn) DIN EN ISO 3497 和 ASTM B568


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